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Q345B工字钢化学机械抛光技术应用前景
发布日期:2015/3/24 15:50:06 【字号 【关 闭】

Q345B工字钢化学机械抛光技术应用前景

目前,Q345B工字钢化学机械抛光技术已经运用于多种不同材料的精细抛光,例如:半导体材料、宝石、特殊用途的高光洁度光学玻璃等硬脆性材料。但是,迄今为止的研究并没有充分认识化学机械抛光的材料去除机理,特别是纳米尺度的抛光磨粒的性能以及单晶硅晶圆表面的微纳尺度的摩擦磨损性能等因素与材料去除机理之间的关系尚不清楚,相关的研究亦处于初始阶段。


深入研究Q345B工字钢化学机械抛光过程的材料去除机理,研究抛光工艺的各技术要素:抛光压力、速度、抛光液的化学成分、抛光液中的磨粒等对抛光过程中的材料去除的作用,将有助于优选抛光工艺参数,从而更好地控制抛光过程,获得高光洁、无损伤的表面。

通过计算磨粒的变形量,更加精确地计算出磨粒压入晶圆表面的深度。由这个压入深度,计算出单位时间内磨粒在晶圆表面去除的材料体积。同时,磨粒压入晶圆表面的深度决定了抛光后的晶圆表面质量。

进一步研究决定磨粒变形量的因素:施加在磨粒上的来自晶圆和抛光垫的力、以及磨粒自身的因素:磨粒的尺寸、硬度、弹性模量等,得出:

①新的考虑磨粒变形因素的化学机械抛光材料去除模型可以更加准确地预测材料去除率;

分分pk10②在纳米级的Q345B工字钢材料去除研究中,磨粒本身的尺寸在纳米尺度,此时磨粒的变形量不可忽视;

分分pk10③硬度值低的磨粒,磨粒更易变形,磨粒在抛光表面形成的擦划沟槽的深度更浅,意味着抛光后表面粗糙度值更小。 其次,本论文研究不同润滑条件下的单晶硅晶圆化学机械抛光的Q345B工字钢材料去除机理。

文章来源于:http://www.iprairie.com/

 

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